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JGP560D磁控溅射系统
编号:6
类别:磁控溅射镀膜系统
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持
    设备用途
        用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研项目。

    设备组成
        主要由主溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热台、进样室、样品库、退火炉、反溅靶、磁力送样机构、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。

    1、双室结构:溅射室、进样室;

    2、溅射室极限真空度:6.67X10-6Pa

    3、溅射室40分钟可达到6.6X10-4Pa;

    4、磁控溅射靶:2英寸x5套;

    5、直流溅射电源:500Wx3套;

    6、射频溅射电源:500Wx2套;

    7、样品尺寸:φ30mmx6片;

    8、样品温度:600℃;

    9、进样室极限真空度:6.67X10-4Pa

    10、进样室样品库:储存6片样品;

    11、进样室退火炉:800℃;

    12、进样室反溅靶组件:1套;

    13、进样室磁力传递杆:1套;

    14、分子泵系统:2套;

    15、薄膜压力真空规:1套;

    16、冷却水路系统:1套。

    公司:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 

    地址:沈阳市浑南新区新源街1

    电话:024-23826899024-23826855

    传真:024-23826828

    邮箱:sales@sky.ac.cn

    网址:www.eva-mag.com

    开户行:建行沈阳浑南新区产业园分理处

    账号:2100 1394 6010 5958 1266

    纳税号:912101 0041 0581 2660

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